
真空概念&機臺專有 名詞導讀李海波 Acceleration electrodes 加速 電極 Aging 老化Sputter 磁控DC濺鍍機 Developer 顯影液 Development 顯影 Dry Etcher 干蝕刻機
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***招標公司受業主***委托,于2018年03月12日在招標網發布SputterITO濺射機臺國際招標公告(2)。 各有關單位請于2018.04.03前與公告系人聯系,及時
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Ruxue Ni Junxi Wang Jinmin Li.(2018).AlGaNbased ultraviolet lightemitting diodes on sputter deposited AlN templates with epitaxial AlN/AlGaN superl
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深圳市奧德賽創精密儀器有限公司發布在丁香通的磁控濺射鍍膜機(Sputter)_磁控濺射鍍膜機_磁控濺射機報價、型號、品牌等供應信息介紹,丁香通致力為您提供質的磁控
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NSC4000Sputter磁控濺射鍍膜機:先進的全自動濺射系統帶有水冷或者加熱(Z高可加熱到700度)功能的8"旋轉樣平臺,Z大可支持到3個偏軸平面磁控管。系統配套渦輪分子泵
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3 Array Sputter (Metal) (陣列磁控濺射機) 6臺 本設備主要用于TFT LCD行業中Sputter薄膜沉積。要求該設備結構設計合理,采用先進成熟技術,保證系統具
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國立成功大學光電科學與工程學系 光電半導體實驗室 磁控濺鍍機Sputter使用守則 2015/02/01 鄭皓中 改 磁控濺鍍機Sputter使用規定使用規定 (1)本機臺需要經過Super
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doc格式2頁文件0.01M濺鍍機(Sputer)標準作業流程濺鍍機(Sputer)標準作業流程21開啟冰水機,開啟機臺背面進水、出水閥,檢查進水壓差在約2kg/cm, 2 打
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Sputter濺鍍機原理與操作簡介_生產/經營管理_經管營銷_專業資料 暫無評價0人閱讀0次下載舉報文檔 Sputter濺鍍機原理與操作簡介_生產/經營管理_經管營銷_專業
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其他題名 Ion Sputter Induced Interfacial Reaction in Prototypical MetalGaN System 語種 英語 源URL [] 專題
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Sputter濺鍍機原理與操作簡介 Sputter濺鍍機原理與操作簡介研究生: 指導教授:林義成博士真空之定義 英文Vacuum,表示Empty或Nothing,空無一物,是佛家
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多功能濺射及蒸鍍機(sputterer/ebeam Evaporator)更新時間: 4、 可以注入多種氣體,進行氧化處理,并且可控制其壓強。5、 樣品臺可以適
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5天前  NSC4000Sputter磁控濺射鍍膜機產品特點:不銹鋼,鋁質腔體或鐘罩式耐熱玻璃腔70,250,如有意向請聯系那諾中國有限公司
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C4000Sputter磁控濺射鍍膜機:先進的全自動濺射系統帶有水冷或者加熱(Z高可加熱到700度)功能的8"旋轉樣平
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sputter etching 濺射蝕刻 metal sputter 金屬膜濺射機 sputter pump 【化】 濺射泵 sputter ion pump 濺射離子泵 sputter ion pump 離子濺射泵 sputter coa
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氧化銦錫真空濺射機(ITO Sputter) 制程腔/ 化學氣相沉積機(CVD)制程腔 1臺/1個/1個/3個 本設備主要用于LTPS(Oxide) LCD/AMOLED of Array Sputter & CV
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